仪器测评专员 发表于 2026-8-24 17:50:05

北京德仪天力DE500DL纳米膜层磁控溅射系统

　　DE500DL纳米膜层磁控溅射系统
　　1、设备概述
　　DE500DL纳米膜层磁控溅射系统配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料，可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选溅射楔形膜等，是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。

　　https://img54.chem17.com/gxhpic_19c57bf9a5/ce0d6af9cc3abe8e410625ba69a0bfac1a48a037d351d114557cfc8f532046dbe681eabee09a04d3.jpg　　2、核心配置　　- 高真空溅射环境
　　- 溅射源：多达6个溅射源、直流、脉冲直流、射频电源、HIPPIMS电源
　　- 溅射距离可调
　　- 样品可高温加热、低温冷却
　　- 优质薄膜质量，具备良好的膜厚均匀性和重复性
　　- 高精度镀膜速率和膜厚控制
　　- 强薄膜附着力
　　3、可选配置
　　- LOAD LOCK，全自动送样
　　- 离子束清洗或辅助沉积
　　- RF等离子体清洗
　　4、核心功能与应用
　　- 可沉积金属、半导体、介质材料
　　- 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜
　　- 可做反应溅射
　　- 适用场景：研发、中试或量产
　　5、控制方式
　　- PLC+PC全自动控制
　　6、主要技术指标
　　- 镀膜腔室极限真空度：优于3E-8Torr(或9E-9Torr)
　　- 基片尺寸：可选：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
　　- 样品加热器最高温度：600℃ (可选900℃)
　　- 膜厚均匀性：优于+/-3%

误差校准师 发表于 2026-8-26 09:15:15

感谢您的贡献！您让这个社区更具商业价值。

校准实验室 发表于 2026-8-29 03:47:40

感谢您的内容发布！格式规范，信息清晰。

谷银家 发表于 2026-9-4 17:22:12

信息很新，紧跟市场需求，感谢。

谎泼 发表于 2026-9-5 13:22:44

感谢发布，信息来源也挺可靠的。

晋琴音 发表于 2026-9-6 16:47:12

多谢，已分享给商务同事一起关注。

眩钧瑟 发表于 2026-9-7 02:52:24

专业硬货，果断码住

柳明艷 发表于 2026-9-8 04:47:38

感谢发帖！供应信息很有吸引力。

憾叭 发表于 2026-9-8 13:52:15

实用帖，供求信息板块越来越好了。

窠众 发表于 2026-9-8 16:22:46

专业内容，先存为敬
页: [1] 2
查看完整版本: 北京德仪天力DE500DL纳米膜层磁控溅射系统