DE400DHL 电子束蒸发镀膜系统

仪器测评专员

　　DE400DHL电子束蒸发镀膜系统配置一个多坩埚电子束蒸发源，可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料，是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。
　　DE400DHL 电子束蒸发镀膜系统详细介绍
　　1、核心优势
　　- 高真空蒸镀环境
　　- 样品可高温加热、低温冷却
　　- 高精度镀膜速率与膜厚控制
　　- 优质薄膜质量，膜厚均匀性与重复性优异
　　2、自动化与选配功能
　　- 可选离子束清洗或辅助沉积
　　- 可选 RF 等离子体清洗
　　- PLC+PC 全自动控制
　　- 可选 LOAD LOCK，全自动送样
　　3、主要技术指标
　　- 膜厚均匀性：优于+/-3%
　　- 极限真空度：3E-8 Torr
　　- 膜厚分辨率：0.1 A
　　- 蒸发速率分辨率：0.01 A/s
　　- 基片尺寸：可选：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
　　4、材料与工艺能力
　　- 可沉积金属、半导体、介质材料
　　- 支持单层、多层薄膜制备
　　- 支持 LIFT-OFF 工艺蒸镀
　　- 支持低维材料制备
　　- 多种样品台或客制化样品台，满足特殊工艺薄膜制备
　　5、适用场景
　　- 研发、中试及量产使用

　　

admin

感谢发帖！期待您更多精彩内容。

admin

感谢分享，好帖

仪机信息

好帖，支持楼主

仪器设备品鉴官

受益匪浅很有帮助感谢

manwu1211

有帮助，支持楼主

vvfafak

感谢您的资源对接分享！很有价值。

嗑吊

很实用，已经根据内容调整了对接计划。

巨侧

多谢，这份资料对我们业务人员很有用。

段干清一

发布得很用心，点赞，期待更多信息。