一、渐晕现象-轴外物点
如下图，轴外物点B的下方边缘光线被L1阻挡，上方边缘光线被L2阻挡，所以对于物点B来说，B点的实际成像光束要小。
轴外物点发出的充满入瞳的光被部分遮挡的现象叫渐晕，引起渐晕的光阑叫做渐晕光阑。一般用渐晕系数K来描述光束渐晕的程度，有
两种表示方式，即面渐晕系数与线渐晕系数，分别定义如下：
面渐晕系数：轴外物点能通过光学系统的成像光束在入（出）瞳面上的截面积与入（出）瞳面积之比。
线渐晕系数：轴外物点能通过光学系统成像的子午光束在入（出）瞳面上的线度与入（出）瞳直径比。
渐晕系数K=1表示无渐晕，K=0表示极限情况，可以得到极限视场。容易得出，光孔离孔阑越远，越容易引起渐晕。由于每个光孔都有
一定大小，所以在没有视场光阑的系统中，一定存在渐晕光阑，在这种情况下，由渐晕光阑限制视场的大小；而在有视场光阑的系统
中，也可能存在渐晕光阑。如果把远离孔阑的透镜直径取的太大时，当视场边缘的物点以与轴上点相同孔径角的光束成像时，光束边缘
部分的光线总离理想光路较远，难以校正像差，所以可以通过减小离孔阑最远的透镜的直径，即增大渐晕光阑，来拦截这些影响像质的
有害光线。
二、在Zemax中设置渐晕系数
Zemax是通过VCX、VCY系数来缩放光瞳，并且通过VDX、VDY系数来平移光瞳。缩放加平移，从而把原来的无渐晕的通光区域变换
拟合到实际的通光的区域。即
Px’ = VDX + Px(1- VCX)
以及
Py’ = VDY + Py(1- VCY)
由于Zemax是使用高斯求积法的采样算法来计算系统的MTF，在Zemax中设置渐晕可以把消除实际系统中被渐晕光阑阻拦的非有效光
线对最终计算结果的影响，这对于MTF的优化来说非常重要，所以在使用Zemax设计光学系统的时候，务必设置渐晕。当然需要注意
的是，由于Zemax设置渐晕采用的方法是平移和缩放，所以不论是点列图还是MTF的计算结果，都是存在一定误差，更重要的是，需
要注意到，在Zemax中设置渐晕之后，主光线也进行了相应的缩放和平移，这会影响依赖主光线进行计算和分析的过程。
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